但这依然是目前最有可能成功的技术。
EUV技术，这是技术前景最为光明的，但也是最困难的技术，因为这个技术要从直接改革光源入手，将目前的光刻机光源改革成为紫光，直接从光源上，把50纳米的极限提升到13.5纳米的极限，提升幅度可谓巨大，绝对是市场前景最为广阔的技术。
这个技术难度极高不说，关键是几乎所有的专利和门槛都掌握在美国人的手里面，分布在英特尔，AMD，摩托罗拉和美国能源部这些单位之中，尼康手里面几乎没有这方面任何的技术专利。
本来作为美国的小老弟，以前的日本或许还有机会加入到这样的专利联盟手中，但是自从花园广场协议一签，所有日本人都知道美国是打定了主意要打压日本的半导体行业，他们是绝不可能允许日本企业进入到EUV技术联盟之中的，否则花园广场协议就白签了。
这里就不得不说一句，其实美国是一家，非常公平和公正的国家，对于能够威胁到自己技术优势的对手，他们会立刻打压。
同样的，如果是自己的狗威胁到了自己的技术优势，那也是一样要打压的。
比如在90年代后期，日本的半导体行业几乎已经要将美国的半导体行业给彻底撕碎了，他们占据了90%以上的市场。
结果花园广场协议一签，日本半导体行业瞬间崩溃，等到了2020年，日本的半导体行业连苟延传统的资格都没有了，直接就变成了一具尸体，而日本政府却只能对美国唯唯诺诺，连一句反对的声音都听不到。
不像中国，来，大家正面干。
咳咳，言归正传就，其实在技术上还有一个比EUV更加梦幻的技术，叫做接近式X光技术，这个技术可以将光源从13.5纳米，一口气提升到一纳米的水平，这是显然是一个更加疯狂的光刻机技术。
而这也是目前整个日本光刻机行业倾力投入的技术，他们梦想着一旦等这个技术开花结果，那就算是EUV再怎么排斥日本也是抓瞎，因为大家根本就不在一个水平面上面了。
只不过，倪光南曾经非常形象的形容过这个技术阵营，说这是一个浪漫主义的技术阵营，大家就当科幻小说来读就好了。
其实后面还有更加科幻的技术，比如光源波长在千分之四纳米的EBDW技术。
还有更加恐怖的光源波长在十万分之五纳米的IPL技术，这些技术，估计要等到击败三体人之后，才有可能看到了。
总而言之，目前尼康等企业正在全力投入的F2激光技术，是目前最有可能成功的技术，也是尼康走的最远的技术，但就算是这样的技术，才能够完成技术，然后进行生产……等到完全的商业化，恐怕就要等到2010年左右了。
结果黄鹤现在告诉尼康，阿斯麦只需要两年的时间就能够拿出突破极限的光刻机出来，领先了尼康足足三年以上的时间，木村真琴就算是当场晕倒，那也是正常的。