“是距实用化最近的一种深亚微米的光刻技术。”
“业内，普遍有一种认知，如果不早点推出极紫外光刻技术，来对当前的芯片制造方法做出全面的改进，将使整个芯片工业处在岌岌可危的地步。”
“所以，其实新时代的节点，变革点，已经能够清晰的预见。”
“极端紫外光刻技术所使用的光刻机的对准套刻精度要达到10nm，其研发和制造原理实际上和传统的光学光刻在原理上十分相似。”
“对光刻机的研究重点，是要求定位要极其快速精密，以及逐场调平调焦技术。因为光刻机在工作时拼接图形，和步进式扫描曝光的次数很多。不仅如此，入射对准光波信号的采集，以及处理问题还需要解决。”
“EUV技术的进展还是比较缓慢的，投资巨大。当前，其实没有几家厂商，能够将这项技术应用于生产中。唯一的A**L公司，做出来的东西，也仅仅算是勉强能用。”
“各家厂商都清楚，半导体工艺向往下刻，使用EUV技术是必须的。波长越短，频率越高，光的能量正比于频率，反比于波长。”
“但是因为频率过高，传统的光溶胶直接就被打穿了。现在，半导体工艺的发展已经被许多物理学科从各个方面制约了。”
“现在的问题的是，第一，EUV光刻机造价太高，好几千万优元。”
“第二，没有真正合适的光源。”
“第三，没有合适的掩模。第四，未研发出合适的光刻胶！”
“所以，我是打算，咱们可以在光源上，琢磨琢磨。”
说道这里，辛启天颇有些意犹未尽舔了下嘴角，眼神放光的说道：“其实如果不考虑整体行业发展，我个人，更想去研究电子束光刻。”
“用电子源发出电子束，经过掩膜和电子透镜，将图案投射到硅片上，从而形成电子线路！”
“但是，电子束高精度扫描成像曝光效率低。在抗蚀剂和基片中的散射和背散射现象，造成的邻近效应。以及其他很多问题。”
“整个行业，目光都不聚集在这里。”
“领先一步是天才，领先十步就是疯子。”
“不过，我对这东西，非常感兴趣。如果能做的好，可以应用于量子元器件等等生产。甚至，还可以搞粒子束武器。”
停顿了片刻，最终，辛启天还是没有把内心深处的想法说出来。
那就是，电子束如果技术进一步成熟，完备到最基础的粒子阶段。对于他搞出来的常温超导体生产制造，应该是有一定帮助。
或许可以摆脱巨大能耗，来保持超导体状态的机器桎梏。
当然，仅仅是有可能。
在学习这些理论当中，辛启天的一点发散性思维罢了。他并没有完全深入去研究。
一直以来，辛启天都不会很深入的脱离现实，去研究高深的理论知识。
相比于科学家来说，辛启天更像是一个工程师！他最童真的愿望，就是制造出各种幻想当中的机器。而不是单纯在理论中，寻找未来的理论。
最初研究量算，是因为辛启天必须寻找，拿出一个有力的成果，来增加自己强大的底气和实力。
东西是研究出来的，但完全没有市场应用效应。一台大型量算，造价高达近百亿优元。运行中，每年也得好几十亿投进去。